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依斯倍环保水处理基本知识普及-含氟废水处理工艺

文章出处：工业废水处理网责任编辑：seven作者：seven人气：-发表时间：2018-12-18 00:00:00【大中小】

依斯倍作为一家专业的水处理环保公司致力于中国环保而为之努力，其实中国许多企业对于污水处理工程中的水处理环保设备并不是十分了解，作为工业废水领域里行业老兵，在水处理技术的工程应用方面有着自己独到的见解，所以下面就环保水处理中的基本知识给大家做一下简单的普及，本文以技术部的经验着重介绍一下含氟废水处理工艺。

半导体行业生产工艺复杂，工艺步骤高达300余步，同时使用多种化学试剂和特殊气体。主要生产工序包括：硅片清洗、氧扩散、化学气相沉积(CVD)、光刻、去胶、干法刻蚀(DE)、湿法腐蚀(WE)、离子注入、金属化(溅射镀膜PVD、电镀铜)、化学机械抛光CMP、检测。其中刻蚀工序等使用氢氟酸、氟化铵及用高纯水清洗，清洗气体NF3等这就是含氟废水主要的来源。含氟废水，对粘膜、呼吸道、眼睛、皮肤组织有极强的破坏作用。吸人后可因喉及支气管的炎症、水肿、痉挛及化学性肺炎、肺气肿而致死。中毒表现有烧灼感、咳嗽、喘息、喉炎、气短、头痛、恶心和呕吐。

含氟废水的处理方法有很多，如吸附法、冷冻法、离子交换树脂除氟法、活性炭除氟法、超滤法、电渗析法，至今很少推广应用，主要原因成本高，除氟率低。目前最实用的是以化学沉淀法和混凝沉淀法为基础形成的一些处理措施

氟化物含量是水质一项重要的毒理学指标,广泛存在于自然界的水体中,同时也是人体必需的微量元素之一,饮用水中氟的适宜浓度为0.5~1.0mg/L,当人群长期饮用高氟水时会致病，给人类健康带来严重危害，而一般半导体或者太阳能厂（尤其是单晶/多晶太阳能电池片厂，每天的HF使用量达数吨），均存在含氟废水产生，含氟废水处理系统，是厂务水系统里面最常见的废水处理系统。本篇介绍最常用的含氟废水处理工艺-化学沉淀法和混凝沉淀法：

（1）流程及控制指标:

中产生的废水收集于收集池中，经水泵提升至中和池调节pH值；后流入第一反应池，废水中的F-和Ca 2+反应生成CaF2沉淀（难溶物质，俗称萤石）；后流入第二反应池，CaF2和PAC发生电离子和水解作用，同时发生络和反应，提高CaF2的颗粒大小，增强CaF2 的沉降性能；废水流入絮凝池，PAM通过架桥的作用进一步提高沉淀的沉降性能（絮凝和混凝过程）；反应后的废水在沉淀池中实现泥水分离。然后通过沉淀池气动隔膜泵将沉淀池污泥打入污泥脱水机，进行脱水处理外运、委托第三方具有资质的厂商进行处理。

中和池、第一反应池、第二反应池和絮凝池都装有搅拌机，与含氟废水的输送泵联动。CaCl2：在流程中有二个投加点，目的是逐级加药，节省加药量。设置H2SO4和NaOH加药管，当加碱量过多的情况下，适量投加H2SO4进行中和。

（2）系统控制

系统一般采用PLC全自动控制，中和池、第一反应池、第二反应池均配备在线的pH计和氟表，随时检测废水的数据。H2SO4 、NaOH和CaCL2的加药管道采用环路设计，既可以保证化学品的均匀，又便于控制加药管道上的自动阀，根据在线仪表的数据及时调整中和池、第一反应池和第二反应池的pH值加药量。保持弱碱性反应条件，三个池子都安装H2SO4、NaOH加药管，当加碱量过多的情况下，适量投加H2SO4进行中和。

反应池1、反应池2及出水的 pH均控制在7.5～8.5范围内，为去除F-最佳pH条件；反应池1中的F-离子浓度范围比较广，介于100 mg／L- 500 mg／L之间；反应池2中的F-浓度范围介于75 mg／L一140 mg／L；以反应池1中的F-浓度为进水浓度，去除率为90％左右；在实际运行中，经该系统处理后的氢氟酸废水排放要求控制在50 ppm～80 ppm，然后在最终出流池和厂内其他车间排出的水量为350 m3 ／H,与处理后的无氟废水混合，稀释后的氟离子浓度均能小于20 ppm（三级排放标准，也是一般市政污水处理厂纳管标准）。既节省了化学品的费用，又能达到排放标准。